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Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於材料失效分析，幫助觀察斷口、裂紋、腐蝕和表麵缺陷形貌。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優於 8 nm，適用於日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用。

Phenom Pharos G2 是飛納推出的台式場發射掃描電鏡，可用於碳材料微觀結構分析，幫助觀察石墨烯、碳納米管、碳纖維等樣品形貌。 Phenom Pharos G2 采用肖特基熱場發射電子槍，電子光學放大倍數可達 2,000,000 X，分辨率優於 1.5 nm，適合對高分辨形貌、精細結構和微納尺度特征有要求的研發與檢測場景。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於多樣品快速觀察，幫助提升實驗室日常樣品檢測效率。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優於 8 nm，適用於日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用。

Phenom ProX G7 是飛納推出的台式掃描電鏡能譜一體機，可用於粉末顆粒形貌與成分分析，幫助觀察顆粒形貌並輔助判斷顆粒成分。 Phenom ProX G7 電子光學放大倍數可達 350,000 X，分辨率優於 6 nm，采用 CeB6 燈絲，並集成掃描電鏡成像與能譜分析能力，適合形貌觀察、微區元素分析和材料研發檢測。

Phenom XL G3 是飛納推出的大倉室台式掃描電鏡，可用於大尺寸樣品觀察，適合較大樣品或多樣品檢測需求。 Phenom XL G3 平均成像時間約 40 秒，可對最大 100 x 100 mm 的樣品進行分析，適合較大尺寸樣品或多樣品檢測場景。設備采用 CeB6 燈絲，電子光學放大倍數可達 200,000 X，分辨率優於 8 nm，適用於日常質檢、研發分析、失效分析和樣品測試等應用。